Cible de pulvérisation cathodique en céramique, cible de sulfure de zinc

Le matériau cible plat ZnS adopte un procédé de frittage par pressage à chaud sous vide, qui peut être produit. Le diamètre maximum est de 300 mm et l'épaisseur est traitée selon les exigences du client.

• Densité : 4,0 g/cm³
• Pureté : 99,99 % - 99,999 %

Largement utilisé dans :

• Puces à semi-conducteurs
• Énergie solaire photovoltaïque terminale
• Écrans plats
• Revêtements spéciaux et autres industries

Divers matériaux cibles en céramique produits par la méthode de frittage par pressage à chaud sous vide ont une technologie de pointe et des processus de production matures. Les produits sont principalement utilisés dans des domaines tels que :

• Énergie solaire à couche mince
• Écrans plats
• Revêtements optiques
• Semi-conducteurs
• Industrie militaire

L'entreprise a coopéré avec de nombreuses universités renommées au pays et à l'étranger, s'engageant dans la recherche et le développement de nouveaux matériaux et procédés, et continue de fournir divers produits et services de matériaux cibles de haute qualité aux clients nationaux et étrangers.