|
|
Petit pain de film de Microfinishing, rapidement coupes, formes et polis, fournissant des finitions de fin-tolérance pour l'outil de précision |
|
Détails sur le produit:
|
| Mettre en évidence: | composants céramiques en nitrure d'aluminium,Parties céramiques à haute conductivité thermique,pièces en céramique d'alumine avec garantie |
||
|---|---|---|---|
Pièces en céramique au nitrure d'aluminium
Grâce à ses propriétés d'isolation électrique et à son excellente conductivité thermique, la céramique en nitrure d'aluminium (AIN) est idéale pour les applications nécessitant une dissipation de chaleur.car il a un coefficient de dilatation thermique proche de celui du silicium et une excellente résistance au plasma, il est utilisé pour les composants des équipements de traitement des semi-conducteurs.
Le nitrure d'aluminium (AlN) a un écart de bande maximal de 6,2 eV, ce qui offre un rendement de conversion photoélectrique plus élevé que les semi-conducteurs à écart de bande indirect.En tant que matériau luminescent bleu et ultraviolet importantEn outre, l'AlN peut former des solutions solides continues avec des composés de nitrure du groupe III tels que GaN et InN,et ses alliages tri- ou quadratiques peuvent fournir un intervalle de bande continuellement réglable de la plage UV visible à profonde, ce qui en fait un matériau luminescent très efficace.
Les cristaux d'AlN sont des substrats idéaux pour les matériaux épitaxiaux GaN, AlGaN et AlN. Comparés aux substrats de saphir ou de SiC, l'AlN présente une compatibilité thermique et chimique supérieure avec le GaN,ainsi qu'une tension inférieure entre le substrat et la couche épitaxiennePar conséquent, un cristal d'AlN en tant que substrat épitaxial de GaN peut réduire considérablement la densité des défauts de l'appareil, améliorer les performances de l'appareil et a des applications prometteuses à haute température, à haute fréquence,et les appareils électroniques à haute puissance.
En outre, the AlGaN epitaxial material substrate with AlN crystal as the high-Al component can effectively reduce the defect density of the nitride epitaxial layer and significantly improve the performance and lifespan of nitride semiconductor devices.
Longueur et largeur: 25,4 mm; 50,8 mm; 63,5 mm; 76,2 mm; 101,6 mm; 114,3 mm; 127 mm; 152,4 mm.
Épaisseur: 0,25 mm; 0,5 mm; 0,63 mm; 1 mm; 1,5 mm; 2 mm.
Personne à contacter: Daniel
Téléphone: 18003718225
Télécopieur: 86-0371-6572-0196