Cible de pulvérisation cathodique en céramique d'oxyde de zinc

Cible de pulvérisation cathodique en céramique, cible d'oxyde de zinc

Description du produit :
Nos diverses cibles en céramique, produites par frittage par pressage à chaud sous vide, sont dotées d'une technologie de pointe et de procédés de production matures. Ces produits sont principalement utilisés dans l'énergie solaire à couches minces, les écrans plats, les revêtements optiques, les semi-conducteurs et les applications militaires.

Notre entreprise collabore avec de nombreuses universités nationales et internationales de renom et se consacre à la recherche et au développement de nouveaux matériaux et procédés, fournissant en permanence une large gamme de produits et de services de cibles de haute qualité à des clients nationaux et internationaux.

Introduction de la cible d'oxyde de zinc :

Les cibles planaires de ZnO sont produites à l'aide d'un procédé de frittage par pressage à chaud sous vide. Des diamètres maximaux de 300 mm sont possibles, avec des épaisseurs personnalisables pour répondre aux exigences des clients.

Paramètres techniques :Densité relative : >99 %, pureté : 99,95 %.

Applications :
Énergie solaire à couches minces, verre à faible émissivité, écrans plats et revêtements optiques.

Contrôle qualité :